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              MLA 100 無掩模光刻儀

              MLA 100 無掩模光刻儀

              產品介紹

              MLA100 無掩模光刻

               

                   

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              以實惠的價格,重點是高性能設計,MLA100是許多研發應用的完美光刻方案。該光學系統被設計以50平方毫米/分鐘直接進入光致抗蝕劑的速度來寫結構下降到1微米,而無需光掩模。光掩模從光刻工藝消除會增加靈活性和顯著縮短成型或制造周期。該MLA100由曝光向導(GUI)控制,通過完整的程序引導操作員來操作:加載基底,選擇設計和開始曝光。隨著60x1875px2的足跡MLA100的設計,以適應甚至到較小的研發實驗室,并且只需要操作提供電源和壓縮空氣。

               

              MLA100應用領域包括生命科學,微機電系統,微光學,半導體,傳感器,執行器,微光機電系統,材料研究,納米管,石墨烯,這任何一項應用都需要微光顯示結構。

               

              主要特征:

              寫速度 50mm^2/min

              最小基板尺寸  6”x  6”

              曝光區域 100×100mm^2

              最小結構  1um

              高功率LED光源

              SLM基于光引擎

              多種數據輸入格式

              基本灰度曝光模式

              對準攝像系統

              實時自動對焦

              優化的曝光向導


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