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        DWL66+

        DWL66+

        產品介紹

        DWL66+

        DWL66+激光光刻系統是一個經濟的,高分辨率模式發生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統,生物微機電,微光學,專用集成電路,微流體,傳感器,計算機全息技術,還有其他的微型機構的應用。用DWL66+的客戶包含了超過150個領先的大學和研究設備處。這個系統的很多功能一直在與這些機構進行密切的合作開發。

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        重要特征選項

        最大基板尺寸9x  9

        最小描繪尺寸0.6um

        最小描繪網格10nm

        先進的灰度曝光模式

        實時的自動對焦系統

        客戶特定激光

        矢量和柵格曝光模式

        可交換的寫模式

        攝像系統計量和校準

        前后面對齊

        人工氣候室

        多種數據輸入格式

        用戶編程接口

        技術參數

        寫入模式

        1

        2

        3

        4

        5

        6

        地址網格(nm)

        10

        20

        25

        50

        100

        200

        最小結構大?。╱m)

        0.6

        0.8

        1

        2

        4

        7

        寫速度(mm^2/min)

        6

        25

        39

        145

        500

        1000

        邊緣粗糙度(3σ,nm)

        50

        70

        80

        110

        160

        240

        線寬均勻度(3σ,nm)

        60

        80

        100

        180

        250

        500

        線條測量精度(3σ,nm)

        100

        120

        150

        250

        400

        800

         


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